半导体材料（semiconductor material）是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料，是科学研究的重要材料。

本文主要介绍上海伯东KRI离子源在半导体材料SiO2中的预清洗及刻蚀应用。

SiO2预清洗的原因:

SiO2在刻蚀前需要将其表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层等去除，且不破坏晶体的表面特性。

KRI离子源在SiO2基片预清洗方法：

客户自己搭建真空系统，集成离子源，具体做法如下。
1.将SiO2基片放进真空系统，调整离子源；
2.抽取真空到某真空度后，启动离子源；
3.利用离子源释放的能量对SiO2基片进行轰击；

KRI离子源在SiO2材料预清洗客户案例：

成都某工艺研究所，通过伯东购买离子源KDC40

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